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分享臺(tái)式離子研磨拋光儀研磨系統(tǒng)的組成

 更新時(shí)間:2023-08-03 點(diǎn)擊量:1034
臺(tái)式離子研磨拋光儀 SEMPrep2 作為新一代的高精密氬離子研磨系統(tǒng),可以滿足研究人員苛刻的研磨需求。集成式多功能截面拋削以及無損平面拋光系統(tǒng),為 SEM 以及 EBSD 用戶提供好的制樣助力。
臺(tái)式離子研磨拋光儀的研磨系統(tǒng)主要由以下幾個(gè)部分組成:  
1.研磨盤:研磨盤是臺(tái)式離子研磨拋光儀的核心部件,通常由金屬材料制成,表面具有一定的粗糙度。研磨盤上可以安裝研磨紙或研磨布,用于進(jìn)行研磨和拋光操作。  
2.研磨液供給系統(tǒng):研磨液供給系統(tǒng)用于提供研磨液,研磨液通常由水和研磨劑混合而成。研磨液的作用是冷卻研磨盤和樣品,同時(shí)還可以起到清潔和潤(rùn)滑的作用。  
3.研磨頭:研磨頭是連接研磨盤和樣品的部件,通常由金屬材料制成。研磨頭可以調(diào)節(jié)研磨盤和樣品之間的接觸力和研磨速度,以達(dá)到不同研磨要求。  
4.控制系統(tǒng):控制系統(tǒng)用于控制研磨盤和樣品的運(yùn)動(dòng),包括研磨盤的轉(zhuǎn)速、樣品的旋轉(zhuǎn)和移動(dòng)等。控制系統(tǒng)還可以設(shè)置研磨時(shí)間和研磨力度等參數(shù),以滿足不同的研磨需求。  
5.真空系統(tǒng):真空系統(tǒng)用于在研磨過程中排除空氣,以減少樣品表面的氧化和污染。真空系統(tǒng)通常包括真空泵和真空室,可以通過控制真空度來調(diào)節(jié)研磨過程中的氣氛。  
6.監(jiān)測(cè)系統(tǒng):監(jiān)測(cè)系統(tǒng)用于監(jiān)測(cè)研磨過程中的參數(shù),如研磨力度、研磨速度、研磨溫度等。監(jiān)測(cè)系統(tǒng)可以通過傳感器和儀器來實(shí)現(xiàn),可以實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)和記錄研磨過程中的數(shù)據(jù)。  
以上就是臺(tái)式離子研磨拋光儀的研磨系統(tǒng)的主要組成部分,不同廠家和型號(hào)的儀器可能會(huì)有所差異,但基本原理和功能是相似的。

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